低溫壓印阻劑也就是針對UV光聚合型壓印技術所開發的蝕刻阻擋材料,由鍾宜璋教授實驗室開發,除了降低UV光聚合時體收縮性外,對於流動性與跟基板之間的作用力都做了最佳化的調整.