高溫壓印阻劑是由許聯崇教授實驗室研發,針對壓印時阻劑流動的特性是影響殘留層厚度均勻性的關鍵出發,所開發的阻劑具有低玻璃轉移溫度,極佳的流動性與高蝕刻阻擋能力等優點,榮獲專利數相當多

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