文字方塊: 壓印蝕刻機台

壓印機台動輒上千萬(成大微奈米中心德國EVG奈米壓印機台約2000萬),雖然較曝光顯影技術的機台(以億計)便宜許多,但對於對此領域有興趣的實驗室還是一筆沈重的負擔.中心改裝市售壓印機台以符合壓印顯影技術所需的要求,可以將成本降低到一百萬左右.

微奈米壓印機台

· 最大壓印公斤數:300Kg

· 壓印面積:20X20 cm2

· 加熱溫度:200oC

· 冷卻模式:水冷氣冷並行

· UV光固化:1000W

壓印後需要將殘留層移除,需要利用電漿氣相蝕刻法,本機台可以採用一般RIE模式或者ICP模式,對於微奈米尺度圖案皆可適用

ICP-RIE蝕刻機台

· 樣本尺寸: 直徑15cm

· 氣體:Ar, O2, CF4, SF6, C6F14

· RF Power:1000W

· Pulse:50kHz Bipolar