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 高解析掃描電子顯微鏡
(High Resolution Scanning Electron Microscope)


  
顯微電鏡是一種觀察表面微觀世界的全能分析顯微鏡,具有景深長及高解析的特點。本儀器為日本 Hitachi SU8000 場發射掃描式電子顯微鏡,利用加負壓於金屬尖端上,以強電場將電子吸出尖端而形成很微小的電子束,在極高的真空中操作(~10-10 torr)可得到高品質分辨率的影像(15KV;1nm解析度)。
    本儀器並配置能量分散式光譜儀(Energy Dispersive Spectrometer 簡稱 EDS)及 可作元素(Boron 以上)之定性及半定量分析,並提供了真空鍍膜設備服務。
  本儀器提供高解析度影像、微區化學組成分析、多功能解析、試片製備容易等優點,適用於材料、半導體、光電、太陽能電池、奈米材料、 機械、物理、冶金等領域,其應用非常廣泛,並符合數位化、電腦化、自動化的操作,對於學術研究有非常大的發展空間。



  
廠牌及型號:HITACHI SU8000
購製日期:99年12月
儀器規格:
1. 二次電子解析:
1.0nm(15KV時)
    1.4nm(1KV時)
2. 放大倍率: LM(低倍率)20-2,000X
  HM(高倍率)100-800,000X
3. 加速電壓: 0.5~30KV(一般模式)
  0.1~2.0KV(減速模式)


一. 影像觀察及照相:
(1) SEI(Secondary Electron Image): 奈米材料、金屬、陶瓷、薄膜等物體材料之顯微影像表面
形貌觀察,並附有距離量測功能。
(2) BEI(Backscattered Electron Image): 含有LA-BSE(Low-angle BSE)及HA-BSE(High-angle BSE)兩種模式,可進行成份組成及重元素鑑別分析。

二. 能量分散式光譜儀:微區顯微結構之定性、半定量及元素分佈分析(Mapping及Linescanning)。


(1) 試件取樣直徑最大不超過15㎜,最大高度3㎜,試件請自行前處理 (本設備樣品載台約2cm)。

(2) 如為非導體,請務必作固定及蒸鍍處理。

(3) 試件需不含水分、強磁性、揮發性物質。

(4) 本儀器為先進之高解析精密儀器,為預防污染真空腔體,拒絕受理含有毒性、腐蝕性、 揮發性及低熔點之高分子、生物、粉末、磁性等之試件。

(5) 如對樣品是否能進入拍攝有任何疑問者,請務必先與技術人員討論。


(1) 操作每一單元三小時,收燈絲維護費2000元。

(2) EDS 元素分析每次外加收費200元(包括Mapping及Linescanning)。

(3) 真空蒸鍍金膜一次收費200元。


(1)每月26日早上11:00開放下個月份使用時段(由國科會貴儀資訊管理系統預約)。

(2)由於負責本設備技術員另協助操作二次離子質譜儀,首次欲使用本儀器使用者,請於預約前先與技術人員接洽。

(3)已完成預約之使用者,請於使用當日的前一天先行查詢儀器狀況。

(4)已完成預約,若欲取消,請於使用日前一天上網取消,否則須計基本使用費。


 
指導教授: 劉全璞教授 (06)2757575轉62943
  cpliu@mail.ncku.edu.tw
 
技 術 員: 施慧蓉小姐 (06)2757575轉31376或62460
  z7306007@email.ncku.edu.tw

 

申請表格


成功大學自強校區儀設大樓2F 0208室